SE-Mapping光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪，采用行业前沿创新技术，配置全自动Mapping测量模块，通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。SE-Mapping光谱椭偏仪广泛应用OLED，LED，光伏，集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
产品型号 | SE-Mapping光谱椭偏仪 |
主要特点 | 1、全基片椭偏绘制化测量解决方案 2、支持产品设计以及功能模块定制化，一键绘制测量 3、配置Mapping模块，全基片自定义多点定位测量能力 4、丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力 5、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm) 6、高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集 7、具备全基片自定义多点自动定位测量能力，提供全面膜厚检测分析报告 8、数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料 |
技术参数 | 1、自动化程度：固定角+ mapping 2、应用定位：检測型 3、基本功能：Psi/Delta、N/C/S、R等光谱 4、分析光谱：380-1000nm(可扩至193-2500nm) 5、单次测量时间：0.5-5s 6、重复性测量精度：0.01nm 7、光斑大小：大光斑2-3mm,微光斑200um 8、入射角调节方式：固定角 9、入射角范围：65° 10、找焦方式：手动找焦 11、Mapping1程：300x300mm 12、支持样件尺寸：最大至300mm |
可选配件 | 3 | 真空泵 | |
4 | 透射吸附组件 | |
